ITO蚀刻液影响蚀刻速率的因素:碱性氯化铜蚀刻液。1、氯化铵含量的影响:通过蚀刻再生的化学反应可以看出:[Cu(NH3)2]+的再生需要有过量的NH3和NH4Cl存在,如果溶液中缺乏NH4Cl,大量的[Cu(NH3)2]+得不到再生,蚀刻速率就会降低,以致失去蚀刻能力。所以,氯化铵的含量对蚀刻速率影响很大。随着蚀刻的进行,要不断补加氯化铵。2、Cu2+离子浓度的影响:Cu2+是氧化剂,所以Cu2+的浓度是影响蚀刻速率的主要因素。研究铜浓度与蚀刻速率的关系表明:在0~82g/L时,蚀刻时间长;在82~120g/L时,蚀刻速率较低,且溶液控制困难;在135~165g/L时,蚀刻速率高且溶液稳定;在165~225g/L时,溶液不稳定,趋向于产生沉淀。ITO蚀刻液可以说是通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。TIO蚀刻液哪家性价比高
ITO导电玻璃稳定性:耐碱为浸入60℃、浓度为10%氢氧化钠溶液中5分钟后,ITO层方块电阻变化值不超过10%。耐酸为浸入250C、浓度为6%盐酸溶液中5分钟后,ITO层方块电阻变化值不超过10%。耐溶剂为在250C、二甲基酮、无水乙醇或100份去离子水加3分EC101配制成的清洗液中5分钟后,ITO层方块电阻变化值不超过10%。附着力:在胶带贴附在膜层表面并迅速撕下,膜层无损伤;或连撕三次后,ITO层方块电阻变化值不超过10%。热稳定性:在300°C的空气中,加热30分钟后,ITO导电膜方块电阻值应不大于原方块电阻的300%。江苏触摸屏生产药水库存充足ITO黑白显影剂是硫酸对甲氨基苯酚、对苯二酚等。
影响ITO氯化铁蚀刻液蚀刻速率的因素:a、Fe3+浓度的影响:Fe3+的浓度对蚀刻速率有很大的影响。蚀刻液中Fe3+浓度逐渐增加,对铜的蚀刻速率相应加快。当所含超过某一浓度时,由于溶液粘度增加,蚀刻速率反而有所降低。b、蚀刻液温度的影响:蚀刻液温度越高,蚀刻速率越快,温度的选择应以不损坏抗蚀层为原则,一般在40~50℃为宜。c、盐酸添加量的影响:在蚀刻液中加入盐酸,可以阻止FeCl3水解,并可提高蚀刻速率,尤其是当溶铜量达到37.4g/L后,盐酸的作用更明显。但是盐酸的添加量要适当,酸度太高,会导致液态光致抗蚀剂涂层的破坏。d、蚀刻液的搅拌:静止蚀刻的效率和质量都是很差的,原因是在蚀刻过程中在板面和溶液里会有沉淀生成,而使溶液呈暗绿色,这些沉淀会影响进一步的蚀刻。
ITO显影液的浓度是指显影剂的相对含量,即NaOH、Na2SiO3总含量。市场上销售的显影液多是浓缩型液体,使用时需要按比例稀释,显影液的浓度多以显影液的稀释比来表示。在其他条件不变的前提下,显影速度与显影液浓度成正比关系,即显影液浓度越大,显影速度越快。当温度22℃,显影时间为60秒时,PD型显影液浓度对PS版性能的影响。当显影液浓度过大时,往往因显影速度过快而使显影操作不易控制;特别是它对图文基础的腐蚀性增强,容易造成网点缩小、残损、亮调小网点丢失及减薄涂层,从而造成耐印力下降等弊病;同时空白部位的氧化膜和封孔层也会受到腐蚀和破坏,版面出现发白现象,使印版的亲水性和耐磨性变差。显影液浓度大,还易有结晶析出。当显影液的浓度偏低时,碱性弱,显影速度慢,易出现显影不净、版面起脏、暗调小白点糊死等现象。ITO显影剂纳米显影技术能瞬间让一块简单的玻璃变成一块显示屏。
ITO蚀刻废液的处理具体特点:第1、印制板厂的废蚀刻液不必再由外单位拉走,在厂内就可直接铜回收和废蚀刻液的循环使用。实现了清洁生产,不会对环境造成任何污染,符合国家法律政策。第二、印制板厂蚀刻机的氨洗水,也同时获得了再生回用,或可实现无污染排放。第三、很大程度减轻了印制板厂废水处理站的运行负荷,降低运行成本。第四、变废为宝,为企业带来良好的经济效益。第五、自主研制、开发、制造、安装、调试,全套设备采用PLC数字控制,易操作管理。第六、落实了国家《清洁生产促进法》,树立科学发展观,创造人和自然的和谐发展,实现“资源再生,循环经济”的可持续经济发展目标,有着非常重要的意义。ITO显影剂是一种涂在玻璃上的纳米技术。TIO蚀刻液哪家性价比高
ITO显影液主要应用于半导体、显示面板、太阳能电池等行业。TIO蚀刻液哪家性价比高
ITO蚀刻液由氟化铵、草酸、硫酸钠、氢氟酸、硫酸、硫酸铵、甘油、水组成。ITO蚀刻液的分类:已经使用的蚀刻液类型有六种类型:酸性氯化铜、碱性氯化铜、氯化铁、过硫酸铵、硫酸/铬酸、硫酸/双氧水蚀刻液。酸性氯化铜,工艺体系,根据添加不同的氧化剂又可细分为氯化铜+空气体系、氯化铜+氯酸钠体系、氯化铜+双氧水体系三种蚀刻工艺,在生产过程中通过补加盐酸+空气、盐酸加氯酸钠、盐酸+双氧水和少量的添加剂来实现线路板板的连续蚀刻生产。TIO蚀刻液哪家性价比高
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